職位描述
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工作職責:1、 負責涂膠顯影設備Setup與工藝Recipe調試;(20%)2、 負責各類先進封裝與MEMS器件Litho工藝可行性分析,全新Litho工藝開發,制程優化,以及器件Litho制程制作;(30%)3、 負責Litho工藝不良預防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升(20%)4、 負責光刻新材料評估、選型與導入(20%)5、 根據項目需求,負責內/外部工作溝通、協調與推動;(10%)任職資格:1、 教育背景: 物理、化學、材料學、機械等理工科相關專業,本科及以上畢業;2、 工作經驗:5年以上半導體 Litho工藝開發經驗,有涂膠顯影設備Setup經驗者優先;3、 技術能力:(1)具備Track設備Setup能力;(2)熟悉半導體 Track設備,有多類光刻材料工藝調試經驗;(3)熟練半導體行業i/g線光刻膠及顯影液材料特性及資源,具備資源整合能力,可以根據需求快速找到相關資源并應用;4、 其他能力:良好的分析與解決問題的能力,良好的團隊意識,和責任心,良好的英語閱讀能力;
職能類別:半導體工藝工程師
關鍵字:MEMS光刻
工作地點
地址:北京大興區北京-大興區
